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开云体育ALD波及一次在基片上千里积一层原子层的材料-开云(中国)Kaiyun·官方网站

发布日期:2024-05-22 08:49    点击次数:64

韩国方面音书称,正在为往常的iPhone相机测试一种新的抗反射光学涂层技巧,该技巧不错通过减少镜头光晕和重影等伪影来晋升像片质地。

据Naver博客上的新闻团聚账号“yeux1122”征引苹果供应链中音书东谈主士的话称,苹果正在琢磨将新的原子层千里积(ALD)成立引入iPhone相机镜头的制造进程。

ALD波及一次在基片上千里积一层原子层的材料,允许对厚度和要素进行极其精准的限度。它的使用使制造商不错将极度薄的材料层讹诈到半导体成立上,包括相机组件。

在相机镜头方面,ALD可用于讹诈抗反射涂层,这有助于减少当阳光等亮堂光源平直映照到镜头时最终图像中可能出现的清朗条纹和光晕等照相伪影。

ALD还不错减少重影,这是一种图像失真类型,在像片中出现微弱的次要图像,频繁与亮堂的光源相对。当清朗在镜头元件和相机的名义之间走动反射时,就会发生这种情况。

此外,讹诈了ALD的材料不错防患环境对相机镜头系统的破损,而不会影响传感器有用捕捉清朗的才略。

Naver博客宣称,这种制造工艺将被讹诈于苹果“下一代”iPhone威望中的“Pro机型”,这听起来像是指iPhone 16系列中的一款或两款高端机型。